在半导体业界，通常使用异丙醇来清洁硅晶圆，以去除硅晶圆上的杂质及污染物，含异丙醇的废水便因此产生。在所属技术领域中，依异丙醇的含量高低，可将废水区分为高异丙醇含量废水(约10wt％至20wt％)以及低异丙醇含量废水(约100ppm至2000ppm)，并针对不同浓度的异丙醇废水，发展出不同的异丙醇废水处理系统。

异丙醇废水处理系统其是搭配一气/液质传单元(例如：吹脱塔或蒸馏塔)的触媒氧化系统。将含异丙醇的废水输送至气/液质传单元后，通过吹脱或蒸发的方式将异丙醇提取至气相，再通过气体收集管路，将气相异丙醇引导至触媒氧化系统，进一步将异丙醇气体分解成二氧化碳及水蒸气，以达到去除异丙醇的效果。

然而，在此异丙醇废水处理系统中，于提取气相异丙醇的步骤中，需使用大量的气体(约为废水体积流量200倍至1000倍的空气)，并需提供高温(大于250℃)的环境，以达到分离异丙醇的效果。因此，此异丙醇废水处理系统存在能源消耗大的缺点。

另外，在处理过程中，气相中异丙醇的含量高于异丙醇的爆炸下限浓度(lower explosive limit，lel)，而具有爆炸的风险。具体来说，异丙醇的爆炸下限浓度为2vol％，一般安全的操作条件为1/4的爆炸下限浓度。

异丙醇废水处理系统其是将含异丙醇的废水通入一微生物处理设备中，利用设备中的好氧微生物分解异丙醇。为了维持微生物的生存，在处理废水的过程中，需持续通入大量空气(或氧气)。

在分解异丙醇之后，处理后的废水会伴随大量的活性污泥一起产生，因此，此异丙醇废水处理系统的下游需设置有一固液分离单元(例如：重力沉淀槽)以及一污泥回流输送设备，以避免流失具有分解能力的活性污泥。

为了确保异丙醇废水处理系统的分解能力，需有计划的管控微生物的浓度，并适时淘汰老化的活性污泥，并将老化的活性污泥交由废弃污泥厂商处理。

总结来说，上述异丙醇废水处理系统涉及微生物的分解，而存在许多不可控性，且整体废水的处理时间长、设备占地空间大，还衍生出处理老化污泥的问题。因此，如何通过系统的改良，改善处理异丙醇废水时产生的不便性，来克服上述的缺陷，已成为该项事业所欲解决的重要课题之一。

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