半导体扩散片生产废水处理系统

半导体扩散片生产过程中会产生大量的清洗废水，对环境污染大，需要经过半导体扩散片生产废水处理系统的处理之后达标排放。下面漓源环保为您介绍一种应用在此类废水处理中的系统。

在半导体扩散片生产废水处理系统中设置依次连接的集水池、PH调节池和助凝沉淀池，其中，助凝沉淀池中的上层清液依次抽至催化氧化池、水解酸化池、接触氧化池和回用收集池， 助凝沉淀池底部污泥依次抽至污泥浓缩池和污泥压滤机。

在半导体扩散片生产废水处理中在助凝沉淀池中加入水处理药剂，药剂为聚丙烯酰胺，阳离子型，分子量800万，投加量15-20ppm，将泥水进行分离，分离后的上清液进入后续的催化氧化池内。

催化氧化池内进行生化处理，这里采用臭氧-双氧水联合催化氧化技术，臭氧投加量为20mg/L，双氧水投加量为3-5mg/L，催化氧化提高了废水生化性。

催化氧化后进入水解酸化池，废水在水解池通过水解酸化作用，大分子的有机物被水解成易于被后续好氧菌所降解的小分子有机物，从而使污水的可生化性和生化去除效果大幅度提高，使得好氧段有较高的COD去除率。水解酸化池内需要投加氮、磷等营养，氮以尿素形式，磷以磷酸氢二钠、磷酸二氢钠等形式，BOD:N:P=300～400:5:1。

水解酸化池出水子流入接触氧化池内，利用好氧微生物的作用，降解污染物。接触氧化采用泥膜混合，提高生物量，丰富生物组，处理效果稳定，出水稳定达标。

经上述半导体扩散片生产废水处理系统的处理之后出水可实现达标，作为杂用水回用，节约水资源。如果您对半导体扩散片生产废水处理还有什么疑问，欢迎咨询漓源环保工程师。

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