半导体工艺废水处理方法

今天给大家介绍一下半导体工艺废水之处理方法，提供一种含有氧化剂、有机物、无机物、及氨氮等杂质并由数股半导体工艺废水汇集而成的综合废水的处理方法，并可包含NH4OH淋洗废水处理、TMAH (四甲基氢氧化铵)黄光工艺废水处理、或NH4F/F_废水处理等个别处理。

水的回收再利用在目前气候异常变迁的时代对高耗水工业成为必须的方案；工厂对外来的水源依赖必须大幅度的降低，以降低生产上不确定的因素。水回收率高解决了生产上不确定因素的问题，但也产生另一个议题环保排放超标问题。工厂使用的化学药品量是固定的，一旦水的回收率高，导致排放的水量减少；相同的化学药品用量造成了废水排放浓度过高的问题，因而超标。

针对环境的议题，环保的单位也针对一些因新研究结果 而发现对环境有不好影响的物质加以严格管制，诸如氨氮、总氮(TN)、总磷(TP)。还有一些放流水质标准虽已有管制，但在未来仍可能需要更严格的管制，诸如生化需氧量(BOD)、化学需氧量(C0D)、及悬浮固体(SS)。

半导体工业废水所含污染物的种类复杂(含有机、无机、氧化物、氨氮及氟化物等)，目前的半导体厂对于水处理的策略是先将经工艺使用过的水进行精准的分类，目前极端的作法是将其分作22类废水。

含杂质浓度较低的直接收集回收作水源；有的杂质高一点的经R0、离子交换或混凝沉淀处理后再回收用作为水源；其余的水就直接作废水排放。现行半导体厂的废水排放是半导体厂内部不同工艺废水逐步汇集成为一至三股大量复杂性废水，再汇集成一股排出工厂。这几股大量废水或上游小量体系的废水名称众多纷扰，但大都依其水质内容物被命名如下，诸如综合废水、NH4F/F_废水、F—废水、高浓度氨气淋洗废水、淋洗废水、TMAH黄光废水、臭氧洗净水、纯水系统反洗水等。由于各家电子产品工艺不同、所使用之药品不同，加上在建厂时规划前段废水回收情况和工艺废水水质分类不同，故各厂各大量及小量体系废水的组成、水质的变化相当大。

半导体工艺废水汇集成的综合废水的处理方法，该综合废水不含NH4F/HF缓冲的氧化物蚀刻液，而基本上含有氧化剂、有机物、无机物、及氨氮杂质。首先对该综合废水进行去氧化剂处理；接着以无氧微生物分解方式进行处理，使其中所含的杂质被部份分解；再以有氧微生物分解方式进行处理，使残留于其中的有机物及氨氮被进一步分解，而得到可回收或排放的废水。进一步包含对NH4OH淋洗废水、TMAH黄光工艺废水、或NH4F/F-废水进行个别处理的步骤，及将此等个别处理所得到废水整合于该综合废水的处理方法。

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